Китайский стартап Prinano разработал технологию наноимпринтной литографии, способную формировать структуры менее 10 нм без использования EUV- и DUV-сканеров ASML.

Китайский стартап Prinano разработал технологию наноимпринтной литографии, способную формировать структуры менее 10 нм без использования EUV- и DUV-сканеров ASML. В основе метода — прямой механический перенос рельефа с кварцевой матрицы на 8-дюймовую кремниевую пластину, исключающий сложные оптические системы и зависимость от экспортных поставок. Равномерность прижима обеспечивается вакуумной подушкой: отклонения от плоскостности удерживаются в пределах 0,5 %, что позволяет матрице впечатывать, например, фотонные волноводы за один проход. По оценкам разработчиков, себестоимость производства по сравнению с классической фотолитографией снижается в десять раз. Технология не рассчитана на выпуск передовых процессоров: прямой контакт матрицы с резистом делает процесс чувствительным к микрозагрязнениям, фатальным для многомиллиардных транзисторных кристаллов.